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技術(shù)文章

真空井式坩堝爐詳細(xì)參數(shù)及原理

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本設(shè)備是由石英坩堝(或氧化鋁陶瓷坩堝)和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片,也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。

真空井式坩堝爐參數(shù)說明

型號

AFD-1200T

AFD-1400T

AFD-1700T

工作溫度

>1200℃

>1400℃

>1700℃

加熱元件

電阻絲

硅碳棒

硅鉬棒

熱電偶

K型

S型

B型

控溫方式

31段可編程自動控制,PID調(diào)節(jié)控溫度

升溫速率

0-10℃

0-20℃

控溫度

±1℃

大真空度

-0.1MPa

爐膛材料

氧化鋁陶瓷纖維板

爐殼

雙層爐殼,風(fēng)冷結(jié)構(gòu)(爐底安裝兩個散熱風(fēng)扇),爐殼表面溫度低于60度

額定功率

1KW—8KW

常用爐膛尺寸

Φ240xH220mm;Φ40xH300mm;Φ60xH300mm;

 Φ80xH300mm;Φ100xH300mm;Φ120xH300mm

聯(lián)


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